奈米精度對位定位平台
應用產業與製程
奈米精度對位定位平台適合哪些需求
製程痛點與應用情境
先說明對位基準、行程、負載與軸數，再分別定義解析度、定位精度及重複定位的驗收方式，避免只用「奈米」作為未定義的規格。
客製設備與整合方式
依 XY/Theta 或多軸對位流程評估回授、控制器與視覺補正介面；平台導引及驅動方式另依條件確認，不由解析度名稱推定所有配置與性能。
規格與需求確認表
| 欄位 | 確認重點 | 規劃方式 |
|---|---|---|
| 行程與軸數 | 工作範圍、軸數及對位流程 | 評估平台配置 |
| 負載與治具 | 工件重量、重心、安裝面及固定方式 | 確認承載與整合條件 |
| 對位基準 | 基準特徵、視覺介面及補正流程 | 界定定位與取像分工 |
| 精度與驗收 | 解析度、定位、重複定位及量測方法 | 分別確認指標與允收條件 |
| 環境與控制 | 現場條件、回授、控制器及節拍 | 確認控制介面與驗證範圍 |
相關服務與實績案例
常見問題
需區分解析度、重複定位、定位精度與驗收方式。
可依製程需求評估軸數與控制架構。
行程、負載、精度、軸數、環境、節拍與回授條件。
可與 AOI、視覺定位、雷射或製程設備整合。
可參考奈米精度對位定位平台實績。