AOI Stage
8 吋晶圓量測與高精度 XY Stage 展示機
豪捷科技具備高精度 AOI 展示機與 XY Stage 整合經驗，公開資料中包含 8 吋晶圓量測、50 倍鏡靜止無晃動、真空吸盤整合設計與第三方雷干量測報告。
此類平台的價值在於把定位精度、Pitch/Yaw 偏擺、真空吸附、光學視野與檢測穩定性一起評估，協助 AOI、半導體與光學量測設備建立可靠的運動基礎。
公開規格與整合重點
| 項目 | 公開內容 | 整合意義 |
|---|---|---|
| 應用對象 | 8 吋晶圓量測、高精度 AOI 展示 | 適合晶圓、光電與精密檢測平台評估 |
| 光學穩定 | 50 倍鏡靜止無晃動 | 支援高倍率檢測下的穩定影像需求 |
| 國外大廠 XY Stage 參考 | Pitch 15 arc-sec、Yaw 15 arc-sec、±0.1µm（R：3µm） | 作為精度對比與設備定位參考 |
| 豪捷 XY Stage 數據 | Pitch 22 arc-sec、Yaw 15 arc-sec、±0.2µm（R：50µm） | 公開資料顯示豪捷數據媲美國外大廠，並具 CP 值優勢 |
| 量測佐證 | 第三方雷干量測報告 | 以外部量測資料支援平台精度可信度 |
| 治具整合 | 真空吸盤整合設計 | 將工件吸附、平台穩定與光學檢測整合到同一設備架構 |
豪捷在此類設備可承接的工作
整機機構設計
可依製程動線、平台行程、維護空間、安全防護與客戶既有操作習慣規劃整機架構。
電控與運動控制
可串接多軸平台、線性馬達、氣浮平台、感測器、光學模組與安全互鎖，讓設備動作與製程節拍一致。
視覺、治具與製程整合
可整合視覺定位、真空吸附、快拆治具、排煙除塵、資料紀錄與驗收流程，降低導入風險。
相關服務與延伸頁面
常見問題
核心價值是把高精度 XY Stage、光學檢測、真空吸盤與量測驗證整合，讓高倍率檢測下的影像與定位都能保持穩定。
豪捷公開資料包含 Pitch 22 arc-sec、Yaw 15 arc-sec、±0.2µm（R：50µm），並有第三方雷干量測報告。
高倍率光學檢測會放大平台振動與偏擺，若鏡頭下影像穩定，對 AOI、晶圓量測與精密檢測有重要意義。
公開資料顯示此案包含真空吸盤整合設計，可把工件固定與平台量測一起規劃。
建議提供工件尺寸、重量、量測範圍、解析度、倍率、行程、精度、平面度、吸附方式與驗收方法。
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提供工件、材料、尺寸、精度、速度、行程、現場限制與驗收方式，豪捷可協助評估設備架構、平台、治具、電控與軟體整合方向。
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